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1. What is photolithography
Photolithography 공정은 어떤 특정한 화학약품(Photo resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 變化하는 원리를 이용하여, 얻고자 하는 pattern의 mask를 사용하여 빛을 선택적으로 PR에 조사함으로써 mask의 pattern과 동일한 pattern을 형성시키는 공정이다. Photolithography 공정은 일반사진의 film에 해당하는 photo resist를 도포하는 PR 도포공정, mask를 이용하여 선택적으로 빛을 조사하는 노광공정, 다음에 현상액을 이용하여 빛을 받은 부분의 PR을 제거하여 pattern을 형성시키는 현상공정으로 구성된다
일반적으로 반도체 소자 제조 공정은 박막 증착(CVD, PVD, Oxidation etc), 공정(Lithography), 식각공정(Etching)을 반복적으로 수행으로써 설계된 패턴을 기판 상에서 구현하게 된다 이러한 공정 중에서 사진 공정은 설계된 패턴을 광 시스템 (마스크, 노광장비)과 감광제를 사용하여 기판에 새겨 넣는 공정이다.

[리포트]한밭대학교 재료Engineering과 photolithography 리포트입니다. 따라서 사진 공정이 정밀도 및 정교한 패턴 형성 과정이 후속공정을 통해 형성되는 Metal line, Channel, 절연층 등의 형상 및 물성치를 결정하게 된다 즉, 사진공정이 성공여부가 후속공정 및 소자의 성능을 결정하게 되므로, 공정오차를 최소화 하는 방향으로 사진 공정을 수행 하여야 하며, 사진 공정을 통해 형성된 감광제 패턴의 검사과정이 필요하다.[레포트]한밭대학교 재료공학과 photolithography 레포트입니다.)
Photolithography 공정은 모든 공정 step이 각종 particle에 대해 매우 취약하고, 이로 인한 pattern 불량이 전체 panel의 불량을 유발하므로, 청정한 環境(환경)과 재료 및 장비의 관리가 보다 중요한 공정이며, 향후 TFT 제작공정이 고정밀, 대면적화에 따라서 그 중요성이 더욱 커지는 공정이다. (위 그림은 사진공정 개략도이다.

2. what is difference between positive a…(To be continued )



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